光纖鍍膜小型離子濺射儀

JS-1600光纖鍍膜小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設計，操作簡單方便，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導體材料實驗電極的制作。

用戶可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件，濺射電流。大尺寸的真空腔體設計，滿足大樣品的濺射需求。標配一片金靶，純度為99.999%，為獲得高質量的金膜提供了好的基礎。

JS-1600光纖鍍膜小型離子濺射儀主要技術指標如下：

1.靶（上部電極）：材料：金，直徑：50mm，厚度：0.1mm　純度：99.999%；

2.真空室：直徑：160mm，高：120mm；

3.樣品臺（下部電極）：濺射面積：直徑：50mm；

4．工作真空： 8×10-2—2×10-1 mbar；

5.離子電流表：50mA；

6.數顯計時器：根據濺射習慣設定單次濺射時間；

7.電壓：-1600DVC；

8.機械泵:2升/每秒；

9.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣；

10.微型真空氣閥： 配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節(jié)，可連接φ3mm軟管；

11.外型尺寸：360mm×300mm×380mm；

備注：JS-600小型離子濺射儀可適用的靶材：金、鉑、銀。